题目内容
(请给出正确答案)
[单选题]
SiHCl3还原法制备晶体硅,在生产过程中不需要控制()
A.反应温度在280℃~300℃之间
B.硅粉与HCl在进入反应炉前要充分干燥
C.晶体生长速度
D.合成时加入少量的催化剂,可降低温度
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A.反应温度在280℃~300℃之间
B.硅粉与HCl在进入反应炉前要充分干燥
C.晶体生长速度
D.合成时加入少量的催化剂,可降低温度
第5题
A、HCL
B、Si
C、SiH
D、SiO2
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